IMP工艺气体传输控制柜

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气体传输系统

Gas Box

IMP工艺气体传输控制柜

离子注入（IMP:-mplant）通过精确控制离子能量、注入剂量和温度等参数，可以实现对材料表面性能的优化和新性能的获。氲继、材料科学、生物医学等领域的发展提供了有力支持。离子注入工艺气体传输控制柜是离子注入设备的重要组成部分，它负责在离子注入过程中精确控制气体的流量、压力等关键参数，以满足离子注入工艺对气体供应的严格要求。该控制柜集成了高精度的流量控制、压力调节以及安全保护功能，确保离子注入工艺的稳定性和安全性。

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产品特点
产品参数
质量管理

产品特点

高精度流量控制

流量控制器和压力调节器采用高精度设计，能够确保气体流量和压力的精确控制

通过对气路部分设计满足客户对小流量、低压力的气体流量控制，最终满足客户的工艺要求

安全稳定性

气柜配有门互锁开关、压力安全开关、单向阀、手动进切断阀等安全部件保证气柜安全

设备采用全304不锈钢，外观30mm以上圆弧过渡设计保证良好导电性，提高了设备的安全性能。

高气密性

产品采用IGS和VCR接口形式

实现半导体设备的高气密性

？榛

采用模块化设计，设备结构紧凑、？榛杓

便于维护和更换部件。nm以上的颗粒杂质

安全认证

通过SEMI S6测试安全认证

产品参数

外漏测试漏率	≤1.0X10-11/mbar·L/s
内漏测试漏率	≤1.0X10-9/mbar·L/s
保压测试50psi	氮气保压测试，保压12h，压降 ≤1%
氦爆测试漏率	≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可。
颗粒测试	(5 particle @ >0.1um)
水氧测试	水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可。